高美館縫隙計畫：七組新銳藝術家實驗性創作，探討邊界與空間的對話與再接合，創造新公共想像與觀眾共鳴

「縫隙」（In-Between）於藝術語境中，指涉邊緣、滲透、呼吸空間與連結等概念，是一種尚未被定義、卻具有生成與縫合可能性的中介狀態。「2026縫隙計畫 KMFA: In-Between」以高美館建築體作為一層界定內外的皮膜為觀察起點，探討美術館園區之間長期存在、卻鮮少被正視的邊界空間。展覽以高美館藝術＋生態文化園區為主要場域，邀集7組新銳藝術家以實驗性、探索性的環境藝術創作介入此一邊界，將「縫隙」理解為一種縫合的機制，藝術於此不作為裝飾或填補，而是在皮膜的斷裂處建立新的介面關係，使館內、館外與藝術得以重新接合、彼此滲透。 「縫隙計畫」聚焦於作品與空間之間的關係生成，將藝術視為一種回應場域的行動對話。作品不僅作為被觀看的對象，而是在特定空間條件中回應日夜光線、環境氛圍與觀者行走狀態的變化，與建築尺度、環境紋理與人的移動路徑形成對話，進而開啟新的視角與感知經驗。透過細微而具實驗性的創作行為，縫隙轉化為促發偶遇、引導詮釋與延展公共想像的場所。 參展藝術家名單 Artists｜ 黃冠慈、簡妤珊 Jerry Huang, Nicky Yu-Shan Chien 簡莉芸、黃婕瑛 Li-Yun Chien, Jie-Ying Huang 蔡寧（著陸方法工作室） Ning Tsai (Landing Approach Studio) 蔡旻翰 Min-Han Tsai 林雨祥、林佩欣、劉姿斈（森屾創作）Yu-Hsiang Lin, Pei-Sin Lin, Tzu-Hsueh Liu (SenseSite Studio) 趙尉翔 Wei-Hsiang Chao 丁建中 Chien-Chung Ding 展覽地點｜